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美授出低温薄膜淀积技术合同 可用于军事装备

2013年07月22日 14:39 来源:中国新闻网 参与互动(0)

  中新网7月22日电 据中国国防科技信息网报道,美国西南研究院从国防预先研究计划局(DARPA)获得一项价值150万美元、为期三年的薄膜淀积技术开发合同。

  DARPA在“材料合成的局部控制”(LoCo)项目下授予了该项目,将研究以非热方法在多种材料表面淀积涂层薄膜。目标是通过研究反应流量、表面迁移率及反应能量等分子构成级的薄膜淀积工艺,克服对高热能输入的依赖。

  由于超出了材料耐温范围,许多当前的高温淀积工艺不能用于军事装备。LoCo项目将尝试创造新型低温淀积工艺和一系列新的基底涂层,改善旋翼叶片、红外线导弹圆顶和光电池等多种国防材料的表面特性。

  美国西南研究院材料工程部的资深科学家、该项目的项目经理Vicky Poenitzsch博士表示:“在借鉴开发新型等离子体技术和薄膜淀积工艺的基础上,我们把重点放在反应流量的薄膜淀积工艺构成上。我们正在开发一种被称为‘大功率脉冲等离子体源’(HiPIPS)的新型等离子体技术,该技术既能提供高反应通量,又能保持低淀积温度。第一年的重点是‘概念验证’,证明HiPIPS等离子体源能够满足反应通量构成的指标要求;第二年我们将等离子体源同其他执行团队的表面反应和迁移率技术相集成;第三年我们将重点在基底上淀积薄膜,并在国防零件上淀积DARPA选择的薄膜。”(王巍)

【编辑:高辰】

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